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低温恒温槽CHDCW-0510磁力搅拌制冷水浴锅
参考价:

型号:

更新时间:2023-11-11  |  阅读:1085

详情介绍

低温恒温槽CHDCW-0510磁力搅拌制冷水浴锅技术参数:

型号

温度范围(℃)

温度波动度(℃)

工作槽容积(mm3)

工作槽开口(mm2)

槽深度(mm)

循环泵流量(L/min)

排水

CHDCW-0506

-5~100

0.02~0.05

250×200×150

180×160

150

6

CHDCW-0510

-5~100

0.02~0.05

250×200×200

180×160

200

6

CHDCW-1006

-10~100

0.02~0.05

250×200×150

180×160

150

6

CHDCW-1008

-10~100

0.02~0.05

280×250×140

235×180

140

6

CHDCW-1010

-10~100

0.02~0.05

250×200×200

180×160

200

6

CHDCW-1015

-10~100

0.02~0.05

280×250×220

235×180

220

6

CHDCW-2006

-20~100

0.02~0.05

250×200×150

180×160

150

6

CHDCW-2008

-20~100

0.02~0.05

280×250×140

235×180

140

6

CHDCW-2010

-20~100

0.02~0.05

250×200×200

180×160

200

6

CHDCW-2015

-20~100

0.02~0.05

280×250×220

235×180

200

6


低温恒温槽CHDCW-0510磁力搅拌制冷水浴锅

低温恒温循环器的应用领域:

1.材料领域:电镜、X射线衍射、X荧光、真空溅射电镀、真空镀膜机、ICP刻蚀、各种半导体设备、疲劳试验机、化学沉积系统、原子沉积系统等。

2.物化领域:激光器、磁场、各种分子泵、扩散泵、离子泵以及包括材料领域。使用的各种需水冷设备。

3. 生化领域:旋转蒸发仪、阿贝折光仪、旋光仪、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物发酵罐、化学反应器(合成器)等。

4. 对激光装置发热部分的冷却:激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等。

5.医疗领域:超导磁共振、直线加速器、CT、低磁场核磁共振、X光机、降温毯等。

6.对半导体制造装置发热部的冷却:单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。


主要用途:

1、对旋转蒸发仪、光化学反应仪光源部分进行低温冷却。

2、对双层玻璃反应釜夹层进行低温冷却和温度控制。

3、对分光光度计的发热部分进行低温冷却和温度控制。

4、对超声波破碎的试料进行低温冷却和温度控制。

5、对激光加工机的发热部分进行低温冷却和温度控制。

6、对蚀刻装置的电机部分进行低温冷却和温度控制。

7、对电子显微镜的电源、光源部分进行低温冷却和温度控制。

8、对工业用机械装置的发热部分进行低温冷却和温度控制。

9、对电泳仪、粘度计、医用冷帽、降温毯进行低温冷却和温度控制。

10、对电镜、分子泵、离子泵、扩散泵进行低温冷却和温度控制。


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